| 開催時期 | 令和6年 11月 25日（月） |
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| ジャンル | 令和6年度 |
【計画概要】
高分子電気絶縁材料は、電力・電気機器や電子デバイスの安全性と信頼性を確保するために不可欠である。しかし、絶縁劣化やその抑制の原理については未解明な点も多い。本講演では、X線イメージング技術を利用した絶縁劣化痕の観察や計算機シミュレーションを活用した劣化抑制原理の検討を中心に、最近の研究成果を紹介する。
【開催場所】九州工業大学戸畑キャンパス 教育研究10号棟201室 およびZoom（ハイブリッド開催）
【講師】岩田 晋弥 氏 (地方独立行政法人 大阪産業技術研究所 和泉センター 製品信頼性研究部）
※参加ご希望の方は 11月18日（月） 正午までに下記フォームよりお申し込み下さい。
■お申込はこちらから https://forms.gle/