特別講義「高分子電気絶縁材料の劣化とその抑制原理の検討」

開催時期 令和6年 11月 25日(月)
ジャンル 令和6年度

【報告概要】

令和6年 11月 25日(月)九州工業大学 戸畑キャンパスおよびZoomにて特別講義を開講した。

岩田 晋弥 氏(地方独立行政法人 大阪産業技術研究所 和泉センター 製品信頼性研究部)より、X線イメージング技術を利用した絶縁劣化痕の観察や計算機シミュレーションを活用した劣化抑制原理の検討を中心に、最近の研究成果を紹介して頂いた。所属研究所の業務内容について主に高電圧・絶縁分野の研究内容が紹介された。絶縁劣化現象の解明は難しいものであるが、現在の最先端の技術を持ってそれに取り組んでおられることは学生にとって大変興味深い内容であった。講演後には、多くの質疑応答がなされ活発な議論が展開された。

参加者内訳:現地参加者11名(大学院生7名、学部生3名、企業1名)および オンライン参加者 12名  合計23名